高真空熱蒸發鍍膜儀主要由有機/金屬蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。高真空熱蒸發鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及進行微小產品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產的單位。
高真空熱蒸發鍍膜儀是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設有4個蒸鍍加熱舟，且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實現對有機材料的蒸發鍍膜，可滿足發光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設備。
高真空熱蒸發鍍膜儀可以在高純氬氣保護下進行多種離子處理，也可真空蒸碳和真空蒸金屬。用于樣品的外貌觀察，尤其對成份定量分析更為適宜。采用分子泵系統，特別適于對真空要求高，真空環境好的用戶選用。 應用領域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
高真空熱蒸發鍍膜儀優點：
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發
高真空熱蒸發鍍膜儀適用于制備金屬電極、鈣鈦礦太陽能電池、OLED、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于于小批量及中試生產或大批量生產前的試驗工作。高真空熱蒸發鍍膜儀應用領域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
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