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EM-KLEEN等離子體清洗機可用于電子顯微鏡和其他類型分析儀器（如 SEM、FIB、TEM、XPS 和西姆斯）的樣品和真空室的原位清潔。它可以有效地去除高真空或超高真空室中的碳氫化合物和氟碳化合物污染物，提高極限真空水平，減少抽氣時間。它還可以在表面成像和分析之前去除樣品表面上的有機污染物。該系統包括一個電阻式液晶觸摸屏控制器與嵌入式微計算機和遠程等離子體源。應在待清潔的真空室上安裝遠