從勻膠旋涂機原理來說，我們可以看出選購勻膠旋涂機需要注意的幾個細節：

　　1、 旋轉速度：轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。國產的某些勻膠旋涂機只能提供轉速范圍，并不能標定實時的轉速。進口的勻膠旋涂機雖然大部分能標定轉速，但是大部分轉速精度沒有標準認定。建議購買轉速控制方面有認定標準的，比如：美國NIST標準等。

　　2、 真空吸附系統的構造

　　真空泵一定要無油的，壓力標定準確，國內生產的無油真空泵實在不敢恭維。因為任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導致基片吸附不住而產生“飛片”的情況，還會讓滴膠液不慎進入真空管道系統造成*堵塞。用過國產勻膠旋涂機的客戶常常會關心怎么清洗的問題，這一點許多國外的勻膠旋涂機做得不錯，他們有通過聯動機制，如果真空吸附力不夠的時候，不會開始旋轉。

　　3、 材質的選擇

　　對于半導體化工行業的應用來說，材質的選擇尤為關鍵，大部分勻膠旋涂機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質，因為這種材質的成本很低，不銹鋼的對于各類化工膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對于較高溫度和壓力下易產生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會導致旋涂時，時高時低的顛簸狀態。自然無法得到好的旋涂效果。例如美國等型號都是采用天然聚丙烯（NPP）或者聚四氟乙烯(特氟隆,PTFE)材質。這兩種材質具備綠色環保、節約資源、重量輕、強度大、抗沖擊性能好、堅固耐用、花紋自然、光澤度好等優點。

　　勻膠旋涂機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。勻膠旋涂機具有穩定的轉速和快速的啟動，可以保證半導體中膠厚度的一致性和均勻性，這正是勻膠旋涂機的特點。