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  • 202512-16
    P-7探針式輪廓儀在眾多行業(yè)中發(fā)揮著重要作用

    P-7探針式輪廓儀憑借其高精度、寬測量范圍、豐富擴展性等優(yōu)點,在眾多行業(yè)中發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷進步和應(yīng)用需求的持續(xù)增長,將繼續(xù)優(yōu)化升級,為科研及工業(yè)生產(chǎn)提供更為準(zhǔn)確可靠的測量解決方案。P-7探針式輪廓儀的優(yōu)點:1.高精度測量:具有...

  • 202511-19
    iMicro納米壓痕儀具有寬泛的測試功能

    iMicro納米壓痕儀是一種高精度的材料力學(xué)性能測試設(shè)備,具有寬泛的測試功能,可提供高通量的自動化測試,并配有統(tǒng)計數(shù)據(jù)分析包。適用于納米力學(xué)性能測量、掃描探針顯微成像、高溫測量和IV電壓電流特性測試等多種應(yīng)用場景,能滿足不同用戶的多樣化需求...

  • 202510-23
    表面缺陷檢測系統(tǒng)是用于識別和評估物體表面瑕疵的重要工具

    相比傳統(tǒng)的人工檢查方式,自動化表面缺陷檢測系統(tǒng)不受主觀因素影響且不會因疲勞而降低工作效率。它能夠快速準(zhǔn)確地捕捉并判斷細(xì)微的缺陷,提升了產(chǎn)品檢測的速度和質(zhì)量,有效減少漏檢率,降低有缺陷的產(chǎn)品流入市場的風(fēng)險。機器視覺系統(tǒng)無需休息,可持續(xù)不間斷地...

  • 20259-8
    薄膜厚度測量儀可適應(yīng)不同的應(yīng)用場景

    薄膜厚度測量儀能夠達(dá)到較高的分辨率,如某些設(shè)備的分辨率可達(dá)0.1,偏差小,可以滿足對薄膜厚度準(zhǔn)確控制的需求,確保產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。采用非接觸式測量方式,與被測物料之間不需要接觸,不會對被測物料造成任何損壞。同時,避免了因接觸產(chǎn)生的壓...

  • 20258-7
    薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)常見的為機械法與光學(xué)法

    薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)主要基于多種物理原理來實現(xiàn)對薄膜應(yīng)力的準(zhǔn)確測定,其中常見的為機械法與光學(xué)法。(一)機械法原理機械法借助對薄膜附著基底的形變測量來反推薄膜應(yīng)力。當(dāng)薄膜沉積在基底表面時,由于薄膜應(yīng)力的存在,會使基底產(chǎn)生微小的彎曲變形。以圓盤形基...

  • 20257-10
    Tergeo等離子清洗機的基本操作,新手不得不看

    Tergeo等離子清洗機是在真空的腔體里,通過射頻(RF)電源在一定的壓力情況下產(chǎn)生高能量的無序等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達(dá)到清洗目的的一種設(shè)備。其工作原理主要基于等離子體的物理和化學(xué)特性,具體過程如下:1.等離子體的產(chǎn)生...

  • 20256-5
    微波去膠機的這些知識值得我們學(xué)習(xí)

    微波去膠機主要利用微波能量激發(fā)等離子體,使氣體分子電離產(chǎn)生大量高能活性粒子。這些活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將光刻膠分解為揮發(fā)性物質(zhì),從而達(dá)到去除光刻膠的目的。例如,在氧氣環(huán)境中,微波激發(fā)產(chǎn)生的氧離子等活性粒子能與光刻膠中的有機成分反應(yīng),...

  • 20255-29
    山東高等研究院等離子清洗機順利安裝

    PIETergeo-pro等離子清洗機成功安裝案例:助力山東高等研究院科研升級近日,我公司銷售的美國PIE公司的Tergeo-pro等離子清洗機在山東高等研究院完成了成功安裝與調(diào)試,標(biāo)志著雙方在科研設(shè)備領(lǐng)域的合作邁出了堅實一步。此次設(shè)備的順...

  • 20255-12
    旋涂顯影系統(tǒng)的核心組成部分

    旋涂顯影系統(tǒng)是半導(dǎo)體制造、微電子加工以及光學(xué)器件制備等領(lǐng)域中至關(guān)重要的工藝設(shè)備之一。它主要通過高速旋轉(zhuǎn)的方式,將液態(tài)的光刻膠均勻地涂覆在硅片等基底表面,隨后經(jīng)過顯影等后續(xù)處理,形成所需的圖案,為后續(xù)的蝕刻、摻雜等工藝步驟奠定基礎(chǔ)。旋涂顯影系...

  • 20254-14
    薄膜沉積系統(tǒng)的核心作用可歸納為以下幾個方面

    薄膜沉積系統(tǒng)的核心功能模塊通常包括真空腔體、氣源供應(yīng)系統(tǒng)、能量輸入裝置及過程控制系統(tǒng)。真空腔體作為反應(yīng)環(huán)境載體,需維持特定壓力范圍以調(diào)控氣相分子的平均自由程,從而優(yōu)化薄膜生長動力學(xué)。氣源供應(yīng)系統(tǒng)通過精確配比不同氣體組分,實現(xiàn)薄膜化學(xué)成分的靈...

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