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  • Model 6000 生產型掩膜曝光機
    Model 6000 生產型掩膜曝光機

    Model 6000 生產型掩膜曝光機由OAI設計與制造 可用于半導體、微機電系統(MEMS)、傳感器、優良晶圓級封裝(WLP)、化合物半導體、發光二極管(LED)以及扇出型面板級封裝(Fanout PLP)。

    更新時間:2025-07-04型號:瀏覽量:322
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