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  • 20227-25
    PECVD沉積的相關(guān)知識點介紹

    PECVD法生長氮化硅薄膜是利用非平衡等離子體的特性,即等離子體分子、原子、離子或激活基團與周圍環(huán)境相同,而其中非平衡電子由于電子質(zhì)量很小,其平均溫度可以比其他粒子大一二個數(shù)量級,所以通常條件下,要高溫(300℃-450℃)才能實現(xiàn)許多反應(yīng)...

  • 20226-24
    質(zhì)譜儀的分類方法有很多

    質(zhì)譜法(massspectrometry)常稱為質(zhì)譜(MS),是一種利用質(zhì)量分析方法進行鑒定物質(zhì)結(jié)構(gòu)的儀器分析方法。質(zhì)譜分析法是通過對被測樣品離子的質(zhì)荷比的測定來進行分析的一種分析方法。被分析的樣品首先要離子化,然后利用不同離子在電場或磁場...

  • 20225-26
    Harrick等離子清洗機是一種全新的高科技技術(shù)

    Harrick等離子清洗機是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子來達到傳統(tǒng)清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài),也稱為第四種物質(zhì)狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量使其電離,使其變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、...

  • 20224-26
    微波等離子去膠機是用來做什么的?

    微波等離子去膠機是在(RIE)反應(yīng)離子刻蝕機的基礎(chǔ)上簡化改進而來,為小型等離子去膠機,具有體積小,性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻...

  • 20223-21
    熱重分析質(zhì)譜儀進行熱解氣體產(chǎn)物成分的分析方法

    熱重分析是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質(zhì)量與溫度變化關(guān)系的一種熱分析技術(shù),用來研究材料的熱穩(wěn)定性和組份。熱重分析在研發(fā)和質(zhì)量控制方面都是比較常用的檢測手段,在實際的材料分析中經(jīng)常與其他分析方法連用,進行綜合熱分析,全面準確分析材料。實驗...

  • 20221-14
    PDC-002等離子清洗機已應(yīng)用于各種電子元件的制造

    PDC-002等離子清洗機包含PAC、PPC、HPC和SCE,可以滿足實驗室到工業(yè)的應(yīng)用、從低溫處理到帶冷卻處理的應(yīng)用、從鋁質(zhì)腔體到石英腔體的應(yīng)用、從簡單緊湊的設(shè)備到可以通過軟件進行延展的應(yīng)用,等等。該等離子清洗機,作為蝕刻系統(tǒng),主要用在工...

  • 202112-25
    等離子清洗機真空泵安裝及配管要求

    等離子清洗機真空泵原理是兩個電極之間形成高頻交變電場,用真空泵在裝置的密閉容器中實現(xiàn)一定的真空度隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長,區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下,形成等離子體。在真空和瞬時高溫狀態(tài)下,活性等離子...

  • 202111-15
    Harrick等離子清洗機的運行過程如下

    Harrick等離子清洗機為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免靜電損傷。在集成電路的制程中,會產(chǎn)生許多種類的污染物,包括氟化樹脂、氧化物、環(huán)氧樹脂、焊料、光刻蝕劑等,這些污染物將嚴重影響集成電路及其元器件的可靠...

  • 202110-18
    高功率等離子清洗機的運行過程如下

    高功率等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清...

  • 20219-26
    微波等離子去膠機的使用方法

    微波等離子去膠機是一個典型的勻膠過程,其中包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)...

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