Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

簡(jiǎn)要描述：Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造
一種用于大面積基板的低成本研發(fā)工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級(jí)以處理更大尺寸的基板。適用于封裝、顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）、半導(dǎo)體晶圓的研發(fā)
其規(guī)格與 OAI 200 型臺(tái)式掩模對(duì)準(zhǔn)器相同

產(chǎn)品型號(hào)：

所屬分類(lèi)：Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

更新時(shí)間：2025-07-04

廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家

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詳情介紹

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

Model212 大面積掩模對(duì)準(zhǔn)器是一款高性?xún)r(jià)比的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器，其采用了 OAI 經(jīng)行業(yè)驗(yàn)證的組件，正是這些組件使 OAI 在光刻設(shè)備行業(yè)處于地位。212 型是一款臺(tái)式掩模對(duì)準(zhǔn)器，所需潔凈室空間極小，為大面積基板、液晶顯示器（LCD）、薄膜晶體管、面板級(jí)封裝和有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）的研發(fā)提供了經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的選擇。借助 OAI 創(chuàng)新的真空吸盤(pán)調(diào)平系統(tǒng)，大面積基板（最大可達(dá) 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米）能快速、輕柔地實(shí)現(xiàn)調(diào)平，確保在曝光過(guò)程中光刻掩模的精準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)和均勻接觸。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn) 1 微米的分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。對(duì)準(zhǔn)模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤(pán)，無(wú)需專(zhuān)用工具即可便捷使用多種基板和掩模。212 型大面積掩模對(duì)準(zhǔn)器配備了經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的 OAI 紫外線(xiàn)光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外、中紫外或深紫外的準(zhǔn)直紫外光。雙傳感器光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連，將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的 ±2% 以?xún)?nèi)。

可處理的基板尺寸最大為 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米

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